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ASML学术性,EUV光刻机的奇迹之路

时间:2023-04-23 12:17:55

Philips Research and CFT、TNO-TPD、FOM-Rijnhuizen、PTB(荷兰国内计量深入研究所)和 Fraunhofer-IWS在内的其他用电商一同。ASML 和 EUCLIDES 于 1999 年与澳大利亚 EUV LLC 联手,而日本则通过其 ASET 构想(超先进电子应用协更会)和以后的日本以致于紫外电子束转型协更会 (EUVA) 构想来渴求 EUV 应用的转型。

2000 年,Jos 必须在 SPIE 上展示 EUCLIDES 构想的第一个结果。看到了来得进一步后,ASML 在 2001 年分配了一小群人和少量资光来借助于一个 EUV 蓝本子系统。

该制作组在 2006 年充分为了让了他们的必须,在此先前第一批 EUV 蓝本被运出布鲁塞尔的 imec 和纽约奥尔巴尼的 SUNY(College of Nanoscale Science & Engineering)。在那里,蓝本被用来来得好地认识 EUV 以及这项上新应用如何融入半导体器件装配全过程。好事开始变得想像。

充分为了让“第一道虹”

2008 年春天,SUNY 可用他们的示范辅助工具产单单了世界性上第一个全场 EUV 检测ROM。2009 年,ASML 在丹麦 Veldhoven 的其总部开设了层很高,这些层很高将容纳10,000 平方米的洁净室和用做 EUV 开发计划和产单单的社会活动空间。

然后,在 2010 年,ASML向北朝鲜三星集团深入研究该机构运输了一台 TWINSCAN NXE:3100,这是一种预产单单的 EUV 子系统。这台驱动器在平安夜充分为了让了“第一道虹”(天体力学概述)。对于Jos 说是,这是 13 年辛勤社会活动的晶体。

一群员工站在丹麦 Veldhoven 的 ASML 其总部在此先前,庆祝 2010 年一台 EUV 驱动器单单货。

“我们从 1997 年就开始着手这上都的社会活动,”他说是。“突然间,到了 2010 年,你要飞越海外去北朝鲜。你厢长途计程车,换衣服,去车间,拐个弯,它就在那里:驱动器。那是一个伟人的日子。最初的梦想在消费者的车间之中变成了普通人。”

这是一个伟人的日子,但据ASML的消费者开始披露除此以外 EUV 应用的商品一直还只能9 年整整。“驱动器基础知识在那里,但我们尽力充分为了让消费者所只需的产单单力,以使 EUV 踏入价格低廉的选项,”Jos 表述说是。“最主要的是要忘记,我们消费者的产单单下一阶段也只能整整,”Jos说是,“在 EUV '推单单'之后,ROM大厂一直只能一两个链表才能使应用成熟并在商业商品之在此先前学习如何适当可用它可以用它来建起。”

这个全过程只能这么长整整的大多诱因是ROM大厂不能围绕上新应用简化基础设施。“除了扫描仪,您还只能简化标线片和电子束胶,以及 EDA(电子设计者自动化)——用做设计者ROM的软件辅助工具,适当为了让上新功能的优势。这是一个不断反馈的全过程,全过程之中每个大多的数据都更会影响其他大多,”Jos 表述道。

2012 年,作为消费者一同投资构想的一大多,ASML的主要消费者Intel、三星集团和台积电同意在五年内为其 EUV 产单单做单单贡献,并收购上新公司的股份作为许诺。ASML又向亚洲和澳大利亚的多种不同消费者交付了六套子系统,并且在 2013 年,我们交付了一台 EUV 产单单子系统——TWINSCAN NXE:3300——标志着这项上新应用的开发计划又向在此先前迈进了一步。

一路走来的应用再一

“这比我确实的要牵牛变长的整整,也比我确实的要相比较,”Jos坚称。“谈到这个全过程,你可以说是我们要么很睿智,要么就是很固执,”他笑着说是。

为了能阶到 13.5 nm 的以致于紫外虹,完全只能在电子束机的所有领域进行创上新,除此以外折射、将虹较小并借助于到硅片上的透镜子二以致于管,以及除此以外ROM蓝图的标线片被复印机。来得复杂的是,EUV 虹完全被所有质点吸收,因此不能在很高高热生存环境之中产单单和可用。“整个切换到高热是一次穿越时空,”Jos回忆起道。“由于outgassing,这使工艺踏入一项再一——你可以可用什么工艺,以及你不能如何处理过程和清洁它们。”

Jos 表述说是:“当Zeiss证明它可以装配专供的 EUV 透镜子二以致于管时,我们的深入研究显然赢得了关注。”透镜子以在此先前是 EUV 小得多的预期再一,但多亏了Zeiss,它迅速就从不可或缺疑虑列表之中掉了慢慢地。

随后,ASML 的全面性转向消除“折射”再一。“由于折射疑虑,我们遭到了很多再一,”Jos承认。“多个消费者更会概述我们的折射备注并说是,这是您多年在此先前尽快的,而普通人远非如此。他们在 SPIE 完全把我们头上在了钉上。”

在 2000 之中期初期,ASML 开始与丹麦、日本和澳大利亚的几家 EUV折射的潜在用电商一同,其之中除此以外其总部位于利马的 Cymer。ASML 选项了 Cymer 的消除方案,以后在 2013 年收购了该上新公司。但产单单比预期的要困昧得多。设计者激虹诱发的宇宙线 (LPP) 光牵涉到以每秒 50,000 次(两次)撞击布固体以使它们熔化,从而诱发比人马座温度很高 40 倍的宇宙线以发射成功 EUV 虹。

赢得250W折射

“我们实际上夺得了一些早期的急于,好事样子很有决心,我们忽视这可能并不像我们预期的那么昧!” Danny Brown(EUV 折射子系统工程与深入研究组长)说是。“但男孩,我们错了。” 因为主要再一是在全尺寸设备之中充分为了让 250 W 的kW。尽管遇到了许多失败,但不遗余力它的制作组终究还是急于了,并于2021 年 9 年内赢得了 Berthold Leibinger 创上新奖。

EUV 将在此之后普遍存在

在我们达到 250 W 的光kW(这使车间每小时可产单单 125 片电子元件)并将其现代化后,隧道的角落就在眼在此先前。根据 Jos 的说是法,我们终究看来我们的 EUV 构想夺得了急于是在 2018 年,在此先前我们的消费者开始在他们的的公司之中强力投资上新应用。“他们牵牛费数十亿美元建起的公司并买到我们的驱动器,这表明他们真的认为 EUV。”

ASML在2020年单单货其第100台EUV电子束机

2019 年,第一款大力支持 EUV 的商业商品披露(三星集团的 Galaxy Note10 和 Galaxy Note10+ 智能手机)。2020 年 12 年内,ASML 庆祝了第 100 台 EUV 子系统单单货,截至 2021 年内,127 台最上新前代 EUV 驱动器在在世界性上消费者一处可用。“这牵牛了很久整整,但 EUV 准备交由逻辑和 DRAM 寄存器的不可或缺层,”Jos表述说是,“我职业生涯之中最差的日子是在 2019 年的一次研讨都招待会——我交到了我的三星集团智能手机并说是:“我曾经和善地说是EUV将在2006年换装。我可耻地承认并未晚了13年。”但随后我挥动着手机说是,“但你们之中的一些人忽视这样子永远不更会普遍存在。” ”

下一步是什么?EUV 0.55(很高数值孔径)及以上

为了充分为了让来得小的ROM特性,我们不断创上新,从前准备将我们的 EUV 驱动器的数值孔径 (NA) 从 0.33 增加到 0.55,这意味着上新子系统之中的透镜子二以致于管将受限制具有来得大入射角的虹击之中电子元件,为子系统透过来得很高的分辨率并减小可复印机多种不同之处的尺寸。Jos 表述说是:“因为这种上新摄像机根本多种不同,这意味着我们不能想单单一种全上取而代之作法来装配它并测量它的特性。“我们在Zeiss和威尔顿的制作组准备打破一项又一项世界性纪录。” 用做产单单目地的首批 EUV 0.55“EXE”驱动器构想于 2023 年内交付给消费者,我们预计它们将在 2025 年用做此前装配。

但在 2022 年,我们小得多的再一是将 EUV 子系统的产量从每年 40 个减低到 60 个左右。根据我们 EUV 车间的副总裁 Sheila Leenders 的说是法,雇用来得多的人并建起来得多的洁净室空间只是疑虑的一大多——困昧的症结在于减低我们用电商网路的火力发电以保证对 EUV 驱动器的只能。“我们的用电基地恰巧造成了平生的再一,”她说是。“我们准备尽力尽力他们在在世界性上用电商只能的地方减低火力发电并减低通用性。”

通过一同克服再一

多年来,ASML 克服了许多失败、意想不到的再一和耽误。但是Jos说是,每当他们看到一个上取而代之再一接踵而来时,他们总是有如何考虑到它的尝试。“通过我们值得尊敬的一同伙伴网路,我们总能找消除疑虑的作法,”Jos说是。

“我们处理过程任何应用的方法都是通过相互配合网路社会活动,”他在此之后说是道。“这使我们必须为了让可用的知识并以‘可不感兴趣的’几率状况夺得进展。”

在 EUV 应用开发计划的所有下一阶段——深入研究、现代化和从前的此前装配——巴士和一同以在此先前是不可或缺。那时候,我们从澳大利亚采购了一些不可或缺的 EUV 计算机子系统,例如用做折射的固体收集器以及电子设备、分划框处理过程器和模拟器,以及来自荷兰的其他计算机子系统,例如我们的Zeiss透镜子二以致于管和通快用做 EUV 光的激虹器,我们与国外的上新公司和该机构一同,在此之后产单单下前代 EUV 驱动器。作为事物之中心的子系统CEO,ASML 急于地建立和动员了一个在世界性上生态子系统,以将许多人忽视不可能的应用现代化。我们从前满怀信心地将其用做批换装单单。

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